粉塵(chen)遊(you)離(li)二氧化(hua)矽分(fen)析(xi)儀(yi)是(shi)壹(yi)種(zhong)用於測(ce)量空氣(qi)中粉(fen)塵(chen)中遊(you)離(li)二氧化(hua)矽含(han)量(liang)的(de)重(zhong)要設(she)備，主(zhu)要應(ying)用於電(dian)力、煤炭等行(xing)業(ye)中粉(fen)塵(chen)的(de)分(fen)析(xi)與(yu)測(ce)試(shi)。

型號：HD-Si12

更新日期(qi)：2025-02-07

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全(quan)自動(dong)遊(you)離(li)二氧化(hua)矽前(qian)處(chu)理工作(zuo)站(zhan)的(de)工作(zuo)原理通常基(ji)於壹(yi)定的(de)化(hua)學反應(ying)和(he)物理分離(li)技術(shu)。在(zai)焦(jiao)磷酸(suan)法(fa)中，工作(zuo)站(zhan)會自(zi)動(dong)加入樣(yang)本(ben)和焦(jiao)磷酸(suan)，並(bing)進行(xing)加熱消(xiao)解(jie)、註(zhu)水、清洗(xi)、過濾(lv)分(fen)離(li)等處(chu)理步驟(zhou)。這(zhe)些步驟(zhou)均(jun)通過自(zi)動(dong)控制系(xi)統實(shi)現，無需人(ren)工幹預(yu)。

型號：HD-Si12

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全(quan)自動(dong)遊(you)離(li)二氧化(hua)矽前(qian)處(chu)理儀，依(yi)據國家職業(ye)衛生(sheng)標(biao)準(zhun)《GBZ/T 192.4-2007工作(zuo)場(chang)所空氣(qi)中粉(fen)塵(chen)測(ce)定第4部(bu)分(fen)：遊(you)離(li)二氧化(hua)矽含(han)量(liang)》中規(gui)定的(de)前(qian)處理步驟(zhou)，自(zi)動(dong)完(wan)成添(tian)加焦(jiao)磷酸(suan)、自(zi)動(dong)加熱攪(jiao)拌(ban)、自動(dong)升溫、15分鐘(zhong)消(xiao)解(jie)過程(cheng)準(zhun)確(que)控溫在(zai)245℃-250℃、自(zi)動(dong)降溫(wen)、自(zi)動(dong)註水、自(zi)動(dong)復溫、自動(dong)過濾(lv)、自(zi)動(dong)清洗(xi)等功(gong)能，整(zheng)個(ge)過程(cheng)無(wu)需人(ren)員值守，實(shi)現了遊(you)離(li)二氧化(hua)矽分(fen)離(li)前(qian)處理的(de)自(zi)動(dong)化(hua)。

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遊(you)離(li)二氧化(hua)矽前(qian)處(chu)理儀，依(yi)據國家職業(ye)衛生(sheng)標(biao)準(zhun)《GBZ/T 192.4-2007工作(zuo)場(chang)所空氣(qi)中粉(fen)塵(chen)測(ce)定第4部(bu)分(fen)：遊(you)離(li)二氧化(hua)矽含(han)量(liang)》中規(gui)定的(de)前(qian)處理步驟(zhou)，自(zi)動(dong)完(wan)成添(tian)加焦(jiao)磷酸(suan)、自(zi)動(dong)加熱攪(jiao)拌(ban)、自動(dong)升溫、15分鐘(zhong)消(xiao)解(jie)過程(cheng)準(zhun)確(que)控溫在(zai)245℃-250℃、自(zi)動(dong)降溫(wen)、自(zi)動(dong)註水、自(zi)動(dong)復溫、自動(dong)過濾(lv)、自(zi)動(dong)清洗(xi)等功(gong)能，整(zheng)個(ge)過程(cheng)無(wu)需人(ren)員值守，實(shi)現了遊(you)離(li)二氧化(hua)矽分(fen)離(li)前(qian)處理的(de)自(zi)動(dong)化(hua)。

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